Detail publikace

Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films

Rašková, Z., Brandejs, K., Cvrčková, O., Krčma, F.

Originální název

Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films

Typ

článek ve sborníku ve WoS nebo Scopus

Jazyk

angličtina

Originální abstrakt

Práce podává přehled identifika hlavních spektrálních čar a pásů měřených během depozice s užitím HMDSO a TVS. Depoziční proces probíhal v pulsním režimu s proměnnou délkou pulsu. Kromě čistých monoměrů byla užívána i příměs kyslíku. Byly pozorovány změny v závoslosti na délce pulsu a složení reakční směsi. Složení plynu vystupujícího z plazmatu bylo sledováno pomocí GC-MS pro níž byly odebírány vzorky metou cold trap. Podařilo se zjistit dosud neznámou sloučeninu a byly navrženy možné reakční mechanismy vedoucí k jejímu vzniku.

Klíčová slova

optical emission spectroscopy, CG-MS, tetravinylsilane deposition, effective power

Autoři

Rašková, Z., Brandejs, K., Cvrčková, O., Krčma, F.

Rok RIV

2004

Vydáno

15. 11. 2004

Nakladatel

Matfyzpress

Místo

Praha

ISBN

80-86732-32-0

Kniha

Proceedings of Week of Doctoral Students

Strany od

367

Strany do

372

Strany počet

6

BibTex

@inproceedings{BUT17256,
  author="Zuzana {Rašková} and Kamil {Brandejs} and Olga {Cvrčková} and František {Krčma}",
  title="Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films",
  booktitle="Proceedings of Week of Doctoral Students",
  year="2004",
  pages="6",
  publisher="Matfyzpress",
  address="Praha",
  isbn="80-86732-32-0"
}