Univerzální vyhřívací podložka

Universal hot plate

Functioning sample

Jedná se o univerzální vyhřívací podložku tvořenou odporovým drátem umístěným mezi dvě korundové podložky o rozměru 2"x 2". Pracovní teplotu podložky je možné po připojení na napájecí zdroj regulovat lineárně až do maximální pracovní teploty 470 st.C. Mimo běžné aplikace je možné podložku využít i pro testování chování mikroelektronických čipů a nanopovrchů při vysokých pracovních teplotách, pro ohřev substrátů během procesu napařování, pájení přetavením, apod.

Universal hot plate is made of a resistance wire placed between two corundum substrates with dimensions of 2"x 2". The working temperature could be linearly regulated to the maximal working temperature of 470 degree C using an appropriate power supply. Besides the common applications, the hot plate could be used for high working temperature behaviour study of microelectronic chips and nanosurfaces, for substrates heating during the physical vapour deposition, reflow soldering, etc.

hot plate

hot plate

LabSensNano T10-N0.66

only the provider uses the result

In order to use the result by another entity, it is always necessary to acquire a license

http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/products.aspx?id=69