Přístupnostní navigace
E-application
Search Search Close
Publication detail
ČECH, V.
Original Title
Tenké vrstvy, multivrstvy a gradientní vrstvy plazmových polymerů
English Title
Thin films, multilayers, and gradient films of plasma polymers
Type
review
Language
Czech
Original Abstract
Plazmochemická depozice z plynné fáze (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD) umožňuje připravit specifické materiály ve formě tenké vrstvy. Tyto materiály nacházejí stále větší uplatnění jako otěruvzdorné, bariérové, biokompatibilní, dielektrické, optické nebo adhezní vrstvy a také jako funkční vrstvy v chemických senzorech, separačních membránách a hybridních materiálech, např. polymerních kompozitech. Vedle organických prekurzorů používaných pro přípravu DLC (diamantu-podobný uhlík) vrstev, patří mezi často používané prekurzory také organokřemičitany. Nedávné studie ukázaly, že fyzikální a chemické vlastnosti vrstev připravených z organokřemičitých prekurzorů mohou být v poměrně širokých mezích řízeny depozičními podmínkami. Polymeru-podobné vrstvy tzv. plazmových polymerů lze připravit při relativně nízkých výkonech (< 10 W) dodávaných do plazmového výboje. Na příkladu vybraných plazmových polymerů připravených z monomeru tetravinylsilanu (TVS) ukážeme souvislosti mezi mechanickými a chemickými vlastnostmi těchto materiálů a jejich využití pro přípravu multivrstev a gradientních vrstev.
English abstract
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) allows the preparation of specific thin film materials. These materials are increasingly used as abrasion-resistant, barrier, biocompatible, dielectric, optical or adhesive layers, as well as functional layers in chemical sensors, separation membranes, and hybrid materials, such as polymer composites. In addition to organic precursors used for the preparation of DLC (diamond-like carbon) layers, organosilicates are often used as precursors. Recent studies have shown that the physical and chemical properties of layers prepared from organosilicon precursors can be governed by deposition conditions within relatively wide limits. Polymer-like layers of so-called plasma polymers can be prepared at relatively low power (<10 W) supplied to the plasma discharge. On the example of selected plasma polymers prepared from the tetravinylsilane monomer (TVS), we show the connections between the mechanical and chemical properties of these materials and their use for the preparation of multivariable and gradient layers.
Keywords
PECVD; tenké vrstvy
Key words in English
PECVD; thin films
Authors
Released
29. 5. 2017
Publisher
Česká vakuová společnost
Location
Zpravodaj ČVS, 25 (1) 2017, Praha
Pages from
45
Pages to
49
Pages count
4
BibTex
@misc{BUT144152, author="Vladimír {Čech}", title="Tenké vrstvy, multivrstvy a gradientní vrstvy plazmových polymerů", year="2017", pages="45--49", publisher="Česká vakuová společnost", address="Zpravodaj ČVS, 25 (1) 2017, Praha", note="review" }