Product detail

Epitaxní vrstva InN nadeponovaná nízkoteplotní aparaturou MOCVD

ŠIK, O. MÜNZ, F. VOBORNÝ, S. HUBÁLEK, J.

Product type

funkční vzorek

Abstract

SEM, XPS a XRD analyza epitaxní vrstvy InN rostlé na safírovém substrátu metodou MOCVD.

Keywords

InN, epitaxy, SEM, XPS, XRD, MOCVD

Create date

27. 3. 2018

Location

CEITEC, Research group RG102

Possibilities of use

K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Licence fee

Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

www

http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/products.aspx?id=140