funkční vzorek

Zdroj atomů slouží k přesnému nanášení materiálů na povrch vzorků rychlostí cca 10 nm/h. Zdroj atomů je složen z Mo kalíšku, který je ohřívám pomocí dopadu urychlených elektronů vystupujících ze žhaveného wolframového vlákna. Zdroj je aktivně chlazen vodou a teplota je monitorována pomocí termočlánku umístěného na chlazeném těle zdroje. Navíc zdroj je vybaven decelerační elektrodou, která potlačuje rušivý vliv parazitních iontů vystupujíc ze zdroje. Výstupní clonu lze nastavit do tří přesně definovaných polohy (Off, On, clona průměru 1 mm)

atomární zdroj; efuzní cela; UHV SEM

30. 12. 2019

Laboratoř povrchů a tenkých vrstev, Technická 2, A2/518

K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek