Přístupnostní navigace
E-application
Search Search Close
Patent detail
HODUL, J. HODNÁ, J. DROCHYTKA, R. SEIDLOVÁ, M.
Patent type
Utility model
Abstract
Předmětem předkládaného technického řešení je polymerní hmota na polyesterové bázi s plnivy na bázi druhotných surovin, která je určena pro sycení výstelky pro metodu CIPP. Polyesterový sanační systém bez styrenu s obsahem druhotných surovin podle předkládaného technického řešení je vhodný zejména pro sanaci kanalizačních řádů, které jsou vystaveny vysokému chemickému namáhání, takže je možné systém podle technického řešení aplikovat v chemicky agresivních podmínkách, které vytváří odpadní vody v betonovém, litinovém nebo kameninovém potrubí. Polyesterový sanační systém bez styrenu s obsahem druhotných surovin obsahuje jako pojivo polyesterovou pryskyřici obsahující vinyltoluen, iniciátor pro polymeraci pryskyřice, a jako plnivo je použito odpadní pěnové sklo a/nebo odpadní čedičové odkapy, a vápenec. Polymerní hmota z uvedených komponent je určena zejména pro sycení polyesterové netkané výstelky. Odpadní produkt z výroby pěnového skla a odpadní čedičové odkapy se před použitím s výhodou melou ve vibračním diskovém mlýně na frakci pod 80 µm, a následně zhomogenizují s vápencovou moučkou o velikostní frakci pod 80 µm. Plnivo je v kompozitu obsaženo v množství 20 až 25 % hmotn. Všechny použité složky (pojivo a plnivo) jsou pro dosažení potřebného účinku daného technického řešení nezbytné. Polymerní sanační systém je rychle-vytvrzující, čímž snižuje časovou prodlevu při odstavení kanalizačních řádů. Dále je vysoce odolný vůči mechanickému zatížení, chemickému namáhání a vykazuje krátkodobou teplotní odolnost až do +90 °C.
Keywords
sanační systém; polyesterová pryskyřice; náhrada styrenu; chemická odolnost; výstelka; druhotné suroviny
Patent number
37512
Date of application
31. 10. 2023
Date of registration
28. 11. 2023
Owner
Vysoké učení technické v Brně, Brno, Veveří IN-CHEMIE Technology s.r.o., Olomouc, Hodolany
Possibilities of use
In order to use the result by another entity, it is always necessary to acquire a license
Licence fee
The licensor requires a license fee for the result