Product detail
Funkční vzorek AR vrstvy pro 266 nm s R < 0,5 % na vrstvu
KOLÍBAL, M. MIRDAMADI, H. ŠKODA, D. BŘEZINA, J.
Product type
funkční vzorek
Abstract
Realizace funkčního vzorku antireflexní vrstvy na vlnové délce 266 nm splňující požadavek R < 0,5 %. pro úhel dopadu 0°± 20° pomocí depozice dielektrických vrstev technologií depozice z pevné fáze a depozicí atomárních vrstev.
Keywords
antireflexní vrstvy; depozice atomárních vrstev
Create date
31. 12. 2024
Location
Laboratoře CEITEC Nano, Purkyňova 123, Brno 61200 a TMeopta a.s., Přerov
Possibilities of use
Výsledek je využíván vlastníkem
Licence fee
Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
www