Přístupnostní navigace
E-application
Search Search Close
Publication detail
VOBORNÝ, S., ZLÁMAL, J.
Original Title
Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev
English Title
A plasmatic ion source optimalisation for direct deposition of thin films
Type
conference paper
Language
Czech
Original Abstract
English abstract
An optimalization of plasmatic ion source for direct deposition of thin films and layers.
Key words in English
Ion source
Authors
RIV year
2001
Released
5. 12. 2000
Publisher
Vutium
Location
Brno
Pages from
353
Pages to
356
Pages count
4
BibTex
@inproceedings{BUT4508, author="Stanislav {Voborný} and Jakub {Zlámal}", title="Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev", booktitle="II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI", year="2000", pages="4", publisher="Vutium", address="Brno" }