Publication detail

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

VOBORNÝ, S., ZLÁMAL, J.

Original Title

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

English Title

A plasmatic ion source optimalisation for direct deposition of thin films

Type

conference paper

Language

Czech

Original Abstract

Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev

English abstract

An optimalization of plasmatic ion source for direct deposition of thin films and layers.

Key words in English

Ion source

Authors

VOBORNÝ, S., ZLÁMAL, J.

RIV year

2001

Released

5. 12. 2000

Publisher

Vutium

Location

Brno

Pages from

353

Pages to

356

Pages count

4

BibTex

@inproceedings{BUT4508,
  author="Stanislav {Voborný} and Jakub {Zlámal}",
  title="Optimalizace plazmatického iontového zdroje pro přímou depozici tenkých vrstev",
  booktitle="II. sborník příspěvků doktorandů, konference u příležitosti 100. výročí založení FSI",
  year="2000",
  pages="4",
  publisher="Vutium",
  address="Brno"
}