Předmětem bakalářské práce studenta Jaromíra Jaruška byla oblast depozic nitridových vrstev pomocí Kaufmanova iontového zdroje.
Teoretická část práce popisuje vlastnosti konvenčních nitridových vrstev, které se připravují pomocí CVD a PVD metod. Na tuto část navazují kapitoly popisující CVD a PVD metody pro přípravu nitridových vrstev a jejich následnou charakterizaci. V práci jsou také podrobněji popsány různé zdroje iontů a hlavní pozornost je zaměřena na Kaufmanův iontový zdroj, který byl v této práci využit.
Hlavní část práce byla zaměřena na přípravu TiN vrstev při nízkých teplotách tak, aby je bylo možné v budoucnu použít při výrobě bioelektronických zařízení. Student během této fáze provedl několik experimentů, kde se soustředil na parametry depozice a charakterizaci připravených vrstev. Studentovi se také navíc podařilo připravit tenké TiN vrstvy s výbornou optickou propustností a elektrickou vodivostí. V praktické části nic nechybí a zpracování experimentů je velice přehledné.
Student Jaromír Jarušek byl po celou dobu řešení své práce velmi aktivní a měl konstruktivní návrhy ohledně optimalizace výrobního procesu TiN vrstev, které budou dále využívány na pracovišti CEITEC. Student se v tématu výborně zorientoval a osvojil si správné návyky práce v čistých laboratořích a naučil se ovládat několik zařízení.
Formální zpracování práce je na velmi vysoké úrovni. V práci se v minimálním rozsahu vyskytují obraty nebo výrazy, které nejsou dobře čtivé. Vzhledem k uvedeným skutečnostem práci doporučuji k obhajobě a hodnotím výslednou známkou A - 98 bodů. Points proposed by supervisor: 98

Tato bakalářská práce se zabývá problematikou depozice tenkých nitridových vrstev a jejich optimalizace pro následné použití v biomedicínských aplikacích. Hlavním cílem práce se zaměřuje na přípravu tenké vrstvy nitridu titanu pomocí Kaufmanova zdroje iontů a optimalizací jejich parametrů tak, aby ji bylo možno využít jako elektrody na flexibilních substrátech.
V teoretické části se student věnuje nitridovým vrstvám, metodami jejich depozice a charakterizace, ale i jednotlivým typům iontových zdrojů, které je možno využít pro depozici tenkých nitridových vrstev. Tuto část práce lze označit za velmi vydařenou a to i díky tomu, že k jejímu zpracování použil dostatek odborné literatury. Kromě pár překlepů v textu (např. na straně 26) nemám práci co vytknout, ani po technické stránce věci. Pro příště bych pouze doporučil věnovat více pozornosti uniformitě velikostí popisků v obrázcích.
V praktické části se student zaměřuje na samotné depozice tenké vrstvy nitridu titanu a optimalizaci jejich parametrů, zejména zjištění depoziční rychlosti, zbytkového pnutí a optických parametrů. Přitom se student zaměřuje zejména na depozice při nízkých teplotách do 100°C, což může být jeden z kritických parametrů případného stresu ve vrstvě, a to zejména při použití flexibilních substrátů. Snad bych jenom vytkl neuvedení všech parametrů depozice (zejména právě teploty) v závěrečné kapitole výroby zavěšených struktur na křemíku, podle kterých by si mohl čtěnář lépe představit vznik pnutí ve vrstvě.
Obsah této práce student splnil v doporučeném rozsahu a i vzhledem k výše zmíněným drobným nedostatkům je práce na velmi dobré úrovni. Hodnotím práci známkou A (93 b.) a doporučuji ji k obhajobě. Topics for thesis defence:

1. 1. Popište funkci neutralizátoru v Kaufmanově zdroji iontů
2. 2. V práci zmiňujete jisté komplikace při leptání nitridové vrstvy, jak suše, tak i mokrou cestou. Existují i jiné metody pro realizaci motivů na substrátu, abyste předešel těmto komplikacím?
3. 3. Vysvětlete, které parametry nejvíce ovlivňují vznik pnutí (stresu) v tenkých vrstvách obecně. Děkuji.

Points proposed by reviewer: 93