Detail předmětu

Plazmochemické procesy a technologie I

FCH-MCO_PLT1Ak. rok: 2012/2013

Předmět seznamuje studenty s plazmochemickými procesy a technologiemi využívanými v soudobé laboratorní i průmyslové praxi. Převážnou část přednášek vedou pozvaní odborníci na příslušné technologie, jak ze sféry výzkumu, tak i průmyslu. Podle možností jsou realizovány i exkurze na pracoviště využívající tyto procesy a technologie.
Předmět je vypisován v lichých letech. Přednášky z předchozího roku (Plazmochemické procesy a technologie II) se neopakují.

Jazyk výuky

čeština

Počet kreditů

2

Plánované vzdělávací činnosti a výukové metody

Přednášky drží převážně zvaní domácí i zahraniční odborníci na jednotlivé technologie a aplikace.

Osnovy výuky

Přehled témat (aktuální nabídka bude průběžně upřesňována):
1. Plazma v přírodě, 2. Termojaderná fúze a její perspektivy, 3. Osvětlovací technika, plazmové displeje, 4. Plynové lasery, excimerní směsi, 5. Elektronové, atomární a molekulové svazky, 6. Elektrický oblouk, 7. Spínací zařízení, 8. Plazmové leptání, výroba mikroelektronických prvků, 9. Generace reaktivních částic a organické syntézy v plazmatu, 10. Depozice tvrdých vrstev (PACVD, PECVD), 11. Plazmové naprašování - magnetronové, diodové, VF, 12. Depozice ochranných DLC vrstev, 13. Povrchové úpravy polymerů (non-polymer forming plasma), 14. Plazmová polymerace (polymer forming plasma), grafting (roubování), 15. Semipermeabilní membrány, senzory na bázi plazmových polymerů, 16. Polymerní vrstvy pro využití v kompozitech, 17. Redukce korozních vrstev, 18. Příprava nanočástic v plazmatu, nanotechnologie, 19. Plazmové stříkaní, plazmatrony, 20. Plazmová sterilizace, 21. Laserová ablační spektroskopie (LIBS), 22. Rozklad VOC v termálním a nerovnovážném plazmatu, 23. Výboje v kapalinách I - principy generace výbojů, generace rázové vlny, 24. Výboje v kapalinách II - generace aktivních částic, rozklady látek, desinfekce, 25. Dohasínající plazma a jeho využití, 26. Aplikace pulzního režimu výbojů, 27. Plazmochemické procesy v planetárních atmosférách, 28. Plazmochemická generace ozónu.

Předmět je vypisován v lichých letech. Přednášky z předchozího roku (Plazmochemické procesy a technologie II) se neopakují.

Základní literatura

Chen F., Chang J. P.: Principles of Plasma Processing. Kluwer Academic, Plenum Publishers, NewYork 2003. (CS)
Roth J. R.: Industrial Plasma Engineering Volume 1: Principles. Institute of Physics Publishing, Bristol and Philadelphia 1995. (CS)
Roth J. R.: Industrial Plasma Engineering Volume 2: Applications to Nonthermal Plasma Processing. Institute of Physics Publishing, Bristol and Philadelphia 2001. (CS)

Zařazení předmětu ve studijních plánech

  • Program NPCP_SCH magisterský navazující

    obor NPCO_SCH , 1 ročník, zimní semestr, povinně volitelný
    obor NPCO_SCH , 2 ročník, zimní semestr, povinně volitelný

  • Program NKCP_SCH magisterský navazující

    obor NKCO_SCH , 1 ročník, zimní semestr, povinně volitelný
    obor NKCO_SCH , 2 ročník, zimní semestr, povinně volitelný

  • Program CKCP_CZV celoživotní vzdělávání (není studentem)

    obor CKCO_CZV , 1 ročník, zimní semestr, povinně volitelný

Typ (způsob) výuky

 

Přednáška

13 hod., nepovinná

Vyučující / Lektor

Konzultace v kombinovaném studiu

13 hod., nepovinná

Vyučující / Lektor