čeština

Studenti získají základní znalosti o průmyslových technologiích pro přípravu tenkých vrstev, jejich povrchové a objemové analýze. Tyto znalosti mohou využít při zpracování diplomové práce a také později jako technologové a výzkumní pracovníci.

Základy chemie a fyziky.

Metody vyučování závisejí na způsobu výuky a jsou popsány článkem 7 Studijního a zkušebního řádu VUT.

Součástí zkoušky je vstupní písemný test. Vlastní zkouška probíhá ústně a hodnotí úroveň základních znalostí studenta z technologií přípravy vrstev, způsobů jejich charakterizace, vlastností a použití tenkých vrstev v rozsahu probíraném na přednášce.

Úvod / Informační zdroje
Základy techniky vakua
Úvod do fyziky a chemie plazmatu
Fyzikální metody pro přípravu tenkých vrstev
Chemické metody pro přípravu tenkých vrstev
Plazmochemická depozice z plynné fáze
Růst tenké vrstvy
Měření tloušťky tenkých vrstev
Rastrovací sondová mikroskopie
Mechanické vlastnosti tenkých vrstev
Návštěva laboratoří

Cílem kurzu je seznámit studenty s pokročilými technologiemi přípravy a analýzy tenkých vrstev.

Studenti dostanou na začátku semestru zadánu literaturu ke studiu. Její nastudování je kontrolováno na konci semestru formou písemného testu a ústní zkoušky.

D.M. Hoffman, B. Singh, J.H. Thomas, Handbook of Vacuum Science and Technology, Academic Press 1998 (CS)
Eckertová L.: Fyzika tenkých vrstev. SNTL, Praha 1973. (CS)
Hoffman D., Singh B., Thomas J. H.: Handbook of Vacuum Science and Technology. Academic Press, San Diego 1998. (CS)
M. Ohring, The Materials Science of Thin Films, Academic Press 2001 (CS)
Mironov V. L.: Fundamentals of Scanning Probe Microscopy. Tekhnosfera, Moscow 2004. (CS)
N. Inagaki, Plasma Surface Modification and Plasma Polymerization, Technomic 1996 (CS)
Ohring M.: Materials Science of Thin Films. Academic Press, San Diego 2002. (CS)