Detail předmětu
Metody a prostředky technické diagnostiky
FSI-XTD-KAk. rok: 2016/2017
Obsahem kurzu je seznámení účastníků s pokročilými metodami a prostředky měření s nanometrovým rozlišením.
Jazyk výuky
čeština
Počet kreditů
4
Garant předmětu
Zajišťuje ústav
Výsledky učení předmětu
Osvojení vybraných fyzikálních jevů z hlediska jejich použití jako podstaty zobrazovacích a měřicích metod.
Prerekvizity
Úspěšné studium vyžaduje znalosti a dovednosti, které odpovídají předmětům Fyzika I, Fyzika II a Metrologická fyzika.
Plánované vzdělávací činnosti a výukové metody
Předmět je vyučován formou přednášek podpořených sadou laboratorních cvičení.
Způsob a kritéria hodnocení
Zkouška skládající se z ústní a písemné části. Aktivní účast na cvičeních a vypracování písemných zpráv.
Učební cíle
Vyložit fyzikální principy vybraných zobrazovacích a měřicích metod a činnosti měřicích přístrojů a zařízení.
Vymezení kontrolované výuky a způsob jejího provádění a formy nahrazování zameškané výuky
Účast na cvičeních je povinná.
Základní literatura
ANTHONY, D.M. Engineering Metrology. New York: Pergamon Press, 1987.
DOEBELIN, O.D. Measurement Systems. Application and Design. 4. vydání. New York: McGraw-Hill, 1990. 960 s. ISMN 0-07-100697-4.
ORNATSKIJ, P.P. Teoretičeskije osnovy informacionno-izměritělnoj techniki. Kijev: Vyšča škola, 1976. 431 s.
SERWAY, R.A. and BEICHNER, R.J. Physics for Scientist and Engineers with Modern Physics. 5. vydání. Orlando: Saunders College Publisching, 2000. 1551 s.
DOEBELIN, O.D. Measurement Systems. Application and Design. 4. vydání. New York: McGraw-Hill, 1990. 960 s. ISMN 0-07-100697-4.
ORNATSKIJ, P.P. Teoretičeskije osnovy informacionno-izměritělnoj techniki. Kijev: Vyšča škola, 1976. 431 s.
SERWAY, R.A. and BEICHNER, R.J. Physics for Scientist and Engineers with Modern Physics. 5. vydání. Orlando: Saunders College Publisching, 2000. 1551 s.
Doporučená literatura
DOEBELIN, O.D. Measurement Systems. Application and Design. 4. vydání. New York: McGraw-Hill, 1990. 960 s. ISMN 0-07-100697-4.
Električeskije izměrenija nelekričeskich veličin. P.V. Novickij, ed. Leningrad: Energie, 1075. 575 s.
HALLIDAY, D., RESNICK, R. and WALKER, J. Fyzika. 1198 s. Brno-Praha:VUTIUM-PROMETHEUS, 2000. Přeloženo z: Fundamentals of Physics, 5.vydání: Wiley,1997 (s přihlédnutím ke změnám pro 6. vydání pro rok 2001).
JENČÍK, J., KUHN, L. a další. Technická měření ve strojírenství. Praha: SNTL, 1982. 580 s.
Električeskije izměrenija nelekričeskich veličin. P.V. Novickij, ed. Leningrad: Energie, 1075. 575 s.
HALLIDAY, D., RESNICK, R. and WALKER, J. Fyzika. 1198 s. Brno-Praha:VUTIUM-PROMETHEUS, 2000. Přeloženo z: Fundamentals of Physics, 5.vydání: Wiley,1997 (s přihlédnutím ke změnám pro 6. vydání pro rok 2001).
JENČÍK, J., KUHN, L. a další. Technická měření ve strojírenství. Praha: SNTL, 1982. 580 s.
Zařazení předmětu ve studijních plánech
Typ (způsob) výuky
Konzultace
4 hod., nepovinná
Vyučující / Lektor
Osnova
Obecné pojmy a teorie. Statistika měření a zpracování chyb: rozdělení náhodných veličin: normální rozdělení, rovnoměrné rozdělení. Zákon přenosu chyb. Zpracování výsledků přímých a nepřímých měření.
Senzory: senzory obecná klasifikace. Kapacitní senzory. Indukční a indukčnostní senzory.
Diagnosticko-zobrazovací techniky: Michelsonova interferometrie, rentgenovská analýza a radiační defektoskopie, rastrovací elektronová mikroskopie, mikroskopie atomárních sil, rastrovací tunelová mikroskopie.
Senzory: senzory obecná klasifikace. Kapacitní senzory. Indukční a indukčnostní senzory.
Diagnosticko-zobrazovací techniky: Michelsonova interferometrie, rentgenovská analýza a radiační defektoskopie, rastrovací elektronová mikroskopie, mikroskopie atomárních sil, rastrovací tunelová mikroskopie.
Laboratorní cvičení
9 hod., povinná
Vyučující / Lektor
Osnova
Laboratorní úlohy:
Polarizace
Difrakce
Fotometrie
Vláknová optika
LCD display
Kolektivní demonstrace:
CT - Počítačová tomografie pro průmyslová využití
LIBS – laserová ablace
SEM – rastrovací elektronová mikroskopie
AFM – mikroskopie atomárních sil
STM – rastrovací tunelová mikroskopie
Polarizace
Difrakce
Fotometrie
Vláknová optika
LCD display
Kolektivní demonstrace:
CT - Počítačová tomografie pro průmyslová využití
LIBS – laserová ablace
SEM – rastrovací elektronová mikroskopie
AFM – mikroskopie atomárních sil
STM – rastrovací tunelová mikroskopie