Detail předmětu

Tenké vrstvy

FCH-MCO_TVRAk. rok: 2018/2019

Struktura přednášky zahrnuje definici základních pojmů, základy techniky vakua, úvod do plazmochemie, technologie přípravy vrstev - napařování, rozprašování, plazmová polymerace, využití laserů pro depozice tenkých vrstev, depozice z plynné fáze, charakterizace tenkých vrstev - růst vrstev, tloušťka tenké vrstvy, techniky sondové mikroskopie (STM, AFM, EFM, MFM, SNOM), mechanické vlastnosti (měřící techniky, pnutí, adheze).

Jazyk výuky

čeština

Počet kreditů

4

Výsledky učení předmětu

Studenti získají základní znalosti o průmyslových technologiích pro přípravu tenkých vrstev, o vybraných analýzách vlastností vrstev a jejich aplikacích. Tyto znalosti mohou využít při zpracování diplomové práce a také později jako technologové a výzkumní pracovníci.

Prerekvizity

Základy chemie a fyziky.

Plánované vzdělávací činnosti a výukové metody

Výuka předmětu je realizována formou: Přednáška - 2 vyučovací hodiny týdně. Vyučujícím a studentům je k dispozici e-learningový systém LMS Moodle.

Způsob a kritéria hodnocení

Písemný vstupní test a po jeho úspěšném absolvování (úspěšnost >50%) probíhá ústní zkouška, která hodnotí úroveň základních znalostí studenta z technologií přípravy vrstev, způsobů jejich charakterizace, vlastností a použití tenkých vrstev v rozsahu probíraném na přednášce.

Osnovy výuky

Úvod / Informační zdroje
Základy techniky vakua
Úvod do fyziky a chemie plazmatu
Fyzikální metody pro přípravu tenkých vrstev
Chemické metody pro přípravu tenkých vrstev
Plazmochemická depozice z plynné fáze
Růst tenké vrstvy
Měření tloušťky tenkých vrstev
Rastrovací sondová mikroskopie
Mechanické vlastnosti tenkých vrstev
Případová studie

Učební cíle

Cílem kurzu je seznámit studenty s pokročilými technologiemi přípravy a analýzy tenkých vrstev.

Vymezení kontrolované výuky a způsob jejího provádění a formy nahrazování zameškané výuky

Účast na přednášce není povinná.

Základní literatura

D.M. Hoffman, B. Singh, J.H. Thomas, Handbook of Vacuum Science and Technology, Academic Press 1998 (CS)
Eckertová L.: Fyzika tenkých vrstev. SNTL, Praha 1973. (CS)
Hoffman D., Singh B., Thomas J. H.: Handbook of Vacuum Science and Technology. Academic Press, San Diego 1998. (CS)
M. Ohring, The Materials Science of Thin Films, Academic Press 2001 (CS)
Mironov V. L.: Fundamentals of Scanning Probe Microscopy. Tekhnosfera, Moscow 2004. (CS)
N. Inagaki, Plasma Surface Modification and Plasma Polymerization, Technomic 1996 (CS)
Ohring M.: Materials Science of Thin Films. Academic Press, San Diego 2002. (CS)

Zařazení předmětu ve studijních plánech

  • Program NKCP_CHM magisterský navazující

    obor NKCO_CHM , 2 ročník, zimní semestr, povinně volitelný

  • Program NPCP_CHM magisterský navazující

    obor NPCO_CHM , 2 ročník, zimní semestr, povinně volitelný

  • Program CKCP_CZV celoživotní vzdělávání (není studentem)

    obor CKCO_CZV , 1 ročník, zimní semestr, povinně volitelný

Typ (způsob) výuky

 

Přednáška

26 hod., nepovinná

Vyučující / Lektor