angličtina

Přehled metod a technik v tenkovrstvé a polovodičové technologii, schopnost návrhu miktrostruktur a nanostruktur za využití pokročilých technik výroby.

není

Metody vyučování závisejí na způsobu výuky a jsou popsány článkem 7 Studijního a zkušebního řádu VUT.

Hodnocení ústní zkoušky dle připravené prezentace, pochopení problematiky, schopnost prezentovat a nastudovaná literatura.

1. Elemental methods for the thin-film deposition,
2. Materials in the thin-film technology,
3. Topology design, lithography,
4. Anisotropic and isotropic etching of the microstructures,
5. The thermal and chemical oxidation,
6. Anodization,
7. Impurity diffusion,
8. Passive layers,
9. Modern methods of the microstructure creation,
10. MEMS,
11. Nanotechnology
12. Nanoelectronics,
13. NEMS.

Student se seznámí se základními i pokročilými metodami a technikami vytváření mikrostruktur a polovodičových součástek, s materiály, pravidly pro jejich realizaci a moderními nanotechnologiemi v polovodičovém průmyslu.

MEMS and Nanotechnology Clearinghouse, http://www.memsnet.org (EN)
TJ. Coutts, Active and Passive Thin Film Device. Academic Press, London 1978, pp.1-858 (EN)

Courtesy Sandia National Laboratories, SUMMiTTM Technologies, www.mems.sandia.gov (EN)
C.T. Leondes, MEMS/NEMS Handbook: Techniques and Applications, Vol. 1-5. Springer Science, 2006 (EN)
H.O. Pierson, Handbook of Chemical Vapor Deposition. William Andrew Publishing, LLC Norwish, NY, USA, 1999, ISBN 0-8155-1432-8 (EN)
H.S. Nalez, Handbook of Organic-Inorganic Hybrid Materials and Nanocoposities, Vol. 1-2, American Scientific Publisher, 2003. (EN)
M.A. Reed and T. Lee, Molecular Nanoelectronics. American Scientific Publisher, 2003, ISBN 1-58883-006-3 (EN)
Michael Kraft: Micromachined Inertial Sensors Recent Developments at BSAC, prezentace, Berkeley Sensor &Actuator Center, California,USA (EN)
S. Sivaram, Chemical Vapor Deposition. International Thomson Publishing Inc., 1995, ISBN 0-442-01079-6 (EN)