Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail předmětu
FCH-DA_PTVAk. rok: 2023/2024
Terminology; fundamentals of vacuum science; introduction to plasma physics and chemistry; film deposition techniques: vacuum evaporation, sputtering, plasma polymerization, mass spektrometry, laser-enhanced CVD, CVD processes; thin film characterization: film growth, film thickness and deposition rate, scanning probe microscopy (STM, AFM, EFM, MFM, SNOM), mechanical properties (measurement techniques, internal stress, adhesion), spectroscopic ellipsometry and analytical methods (XPS, RBS, ERDA, FTIR).
Jazyk výuky
Garant předmětu
Zajišťuje ústav
Základní literatura
Zařazení předmětu ve studijních plánech