Detail předmětu

Praktikum z fotochemie

FCH-MC_FCP_PAk. rok: 2025/2026

Praktické úlohy jsou zaměřeny na procvičení poznatků získaných v teoretickém předmětu. Jsou zaměřeny na fotokatalytický proces, aktinometrii, pozitivní fotorezisty a negativní fotorezisty, fotopolymerizaci a způsob vyhodnocování laboratorních výsledků.

Jazyk výuky

čeština

Počet kreditů

3

Garant předmětu

prof. Ing. Michal Veselý, CSc.

Zajišťuje ústav

Ústav fyzikální a spotřební chemie (ÚFSCH)

Vstupní znalosti

fotochemie

Pravidla hodnocení a ukončení předmětu

Klasifikovaný zápočet, při hodnocení se přihlíží k připravenosti studentů na praktikum, k úrovni práce v praktiku a k výsledku zápočtového testu.
Klasifikovaný zápočet, při hodnocení se přihlíží k připravenosti studentů na praktikum, k úrovni práce v praktiku a výsledku zápočtového testu. Přítomnost nutná, jedna absence může být kompenzovaná vypracováním písemné práce na zadané téma.

Učební cíle

Cílem Praktika z fotochemických procesů je praktické obeznámení s fotochemickými technikami s důrazem na důsledné vyhodnocování získaných poznatků.
Studenti získají znalosti a praktické dovednosti při provádění fotochemických reakcí organických látek, aktinometrii a přípravě a zpracování fotorezistů.

Zařazení předmětu ve studijních plánech

  • Program NPCP_CHCHTE magisterský navazující 1 ročník, letní semestr, povinně volitelný
  • Program NKCP_CHCHTE magisterský navazující 1 ročník, letní semestr, povinně volitelný

Typ (způsob) výuky

 

Konzultace v kombinovaném studiu

26 hod., nepovinná

Vyučující / Lektor

prof. Ing. Michal Veselý, CSc.

Laboratorní cvičení

39 hod., povinná

Vyučující / Lektor

prof. Ing. Michal Veselý, CSc.

Osnova

1. Fotokatalytický proces: fotokatalytická degradace 2,6-dichlorindofenolu,
2. Fotokatalytický proces: fotokatalytická redukce stříbra,
3. Aktinometrie: určení dopadajícího zářivého toku,
4. Pozitivní fotorezisty: určení správné expozice pro fotopolymerní tiskovou formu,
5. Pozitivní fotorezisty: určení citlivosti konvenční ofsetové desky,
6. Negativní fotorezisty: příprava světlocitlivé vrstvy, určení citlivosti. Vliv koncentrace světlocitlivé látky,
7. Negativní fotorezisty: příprava světlocitlivé vrstvy, určení citlivosti. Vliv tloušťky vrstvy.