Detail projektu
Lithography Techniques
Období řešení: 1.4.2023 — 31.12.2025
Zdroje financování
Technologická agentura ČR - 2. veřejná soutěž: Program Národní centra kompetence
O projektu
The motivation of this sub–project is the development of technology processes and design rules for specific optical elements in VIS/UV regions, metasurfaces and particle traps.
Klíčová slova
Lithography Techniques
Označení
TN02000020/020
Originální jazyk
angličtina
Řešitelé
Ligmajer Filip, Ing., Ph.D. - hlavní řešitel
Útvary
Příprava a charakterizace nanostruktur
- odpovědné pracoviště (16.3.2023 - nezadáno)
Příprava a charakterizace nanostruktur
- příjemce (16.3.2023 - nezadáno)
Odpovědnost: Ligmajer Filip, Ing., Ph.D.