Detail produktu
Epitaxní vrstva AlN nadeponovaná vysokoteplotní aparaturou MOCVD
ŠIK, O. VOBORNÝ, S. MÜNZ, F. HUBÁLEK, J.
Typ produktu
funkční vzorek
Abstrakt
SEM, XRD, XPS analýza a elipsometrie epitaxní vrstvy AlN rostlé na safírovém substrátu metodou MOCVD.
Klíčová slova
GaN, epitaxy, SEM, XRD, XPS, Ellipsometry, MOCVD
Datum vzniku
31. 12. 2018
Umístění
CEITEC, Research group RG102
Možnosti využití
K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licenční poplatek
Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
www