Detail RUV

2021 Shanghai Design 10×10, Global Poster Invitational Exhibition

RAJLICH, J.

Segment

grafický design

Druh činnosti

Vystavený design

Klíčová slova

autorský plakát, vystavený plakát Jana Rajlicha, mezinárodní výstava plakátu

Datum vzniku

21. 12. 2021

Umístění

China Art Museum, Čína, Shanghai, 21.12.2021 - 14.01.2022