Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikace
Ondřej Hégr, Jaroslav Boušek
Originální název
Reaktivní magnetronové naprašování vrstev SiNx pro povrchovou pasivaci krystalických solárních článků
Anglický název
Reactive magnetron sputtering of SiNx layers for surface passivation of crystalline solar cells
Typ
článek ve sborníku ve WoS nebo Scopus
Jazyk
čeština
Originální abstrakt
Hlavní výhodou pasivačních vrstev vytvářených reaktivním magnetronovým naprašováním je zejména nízká procesní teplota. Použití nízkoteplotní depozice umožňuje redukci poruch krystalické mřížky křemíkového povrchu. Díky tomu je snižována rekombinační rychlost a prodlužuje se doba života minoritních nosičů. Cílem práce je vytvořit pasivační vrstvu na povrchu fotovoltaického solárního článku, jejíž struktura umožní zlepšení optických a elektrických vlastností celého článku.
Anglický abstrakt
For deposition of SiNx films the main advantage of magnetron sputtering technology is low process temperature. The amount of the crystal lattice deffect decrease when using this low-temperature process. The aim of work was evaluation of both front and back side surface recombinations and optical properties of sputtered layers.
Klíčová slova
pasivační vrstva, rekombinace, magnetronové naprašování, solární články
Klíčová slova v angličtině
passivation layer, magnetron sputtering, solar cells, recombination
Autoři
Rok RIV
2006
Vydáno
12. 12. 2006
Nakladatel
nakl. Z. Novotný
ISBN
80-214-3342-6
Kniha
Konference MIKROSYN. Nové trendy v mikroelektronických systémech a nanotechnologiích
Strany od
124
Strany do
129
Strany počet
6
BibTex
@inproceedings{BUT24901, author="Ondřej {Hégr} and Jaroslav {Boušek}", title="Reaktivní magnetronové naprašování vrstev SiNx pro povrchovou pasivaci krystalických solárních článků", booktitle="Konference MIKROSYN. Nové trendy v mikroelektronických systémech a nanotechnologiích", year="2006", volume="2006", number="1", pages="6", publisher="nakl. Z. Novotný", isbn="80-214-3342-6" }