Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikace
OHLÍDAL, I., OHLÍDAL, M., FRANTA, D., ČUDEK, V., BURŠÍKOVÁ, V., ŠILER, M.
Originální název
Měření mechanického napětí v tenkých vrstvách pomocí kombinované optické metody
Anglický název
Stress measurement in thin layers with aid of combined optical method
Typ
článek v časopise - ostatní, Jost
Jazyk
čeština
Originální abstrakt
Je popsána optická metoda měření mechanického napětí v tenkých vrstvách. Metoda je založena na určování poloměrů zakřivení deformovaných podložek , která vznikají v důsledku napětí ve vrstvách vytvořených na těchto podložkách. Hodnoty napětí jsou počítány pomocí modifikované Stoneovy rovnice. Hodnoty tlouštěk tenkých vrstev jsou určeny pomocí metody založené na interpretaci experimentálních dat získaných v rámci víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie. Metoda je využita pro určení hodnot mechanických napětí ve vrstvách DLC vytvořených na podložkách z monokrystalu křemíku, které obsahují příměsi Si a O. Je studována závislost hodnot napětí v těchto vrstvách na hodnotách poměru průtoků hexametyldisiloxanu a metanu.
Anglický abstrakt
In this paper mechanical stresses taking place in diamond like carbon (DLC) thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition onto silicon single crystal substrates are studied. For determining the stress values inside the films the optical methods are used. The first method is based on treating the interferograms obtained using a two-beam interferometer. By means of these interferograms the values of curvature radius of spherical surfaces of the deformed silicon substrates are determined. Using the modified Stoney's formula the stress values are then evaluated. The values of the films thickness needed for determining the stress values are found by the combined method of variable angle spectroscopic reflectometry. The influnce of the ratio of flows of HMDSO and CH4 on the stress inside films is studied.
Klíčová slova
DLC vrstvy, mechanické napětí, dvoupaprsková interferometrie
Klíčová slova v angličtině
DLC films, mechanical stress, two-beam interferometry
Autoři
Rok RIV
2005
Vydáno
29. 3. 2005
Nakladatel
Fyzikální ústav Akademie věd České republiky
Místo
Praha
ISSN
0447-6441
Periodikum
Jemná mechanika a optika
Ročník
50
Číslo
3
Stát
Česká republika
Strany od
72
Strany do
75
Strany počet
4
BibTex
@article{BUT45477, author="Ivan {Ohlídal} and Miloslav {Ohlídal} and Daniel {Franta} and Vladimír {Čudek} and Vilma {Buršíková} and Martin {Šiler}", title="Měření mechanického napětí v tenkých vrstvách pomocí kombinované optické metody", journal="Jemná mechanika a optika", year="2005", volume="50", number="3", pages="72--75", issn="0447-6441" }