Detail publikace

Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace

POTOČEK, M. BÁBOR, P. ŠIKOLA, T.

Originální název

Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace

Anglický název

Application of thermal desorption spectroscopy for surface contamination investigation

Typ

článek v časopise - ostatní, Jost

Jazyk

čeština

Originální abstrakt

V článku je popsán teoretický základ termální desorpční spektroskopie a její realizace v laboratoři povrchů a tenkých vrstev. Dále je uvedeno použití této metody při studiu kontaminace Si desek.

Anglický abstrakt

Theoretical basics of thermal desorption spectroscopy and its realization in the Surfaces and Thin Films Laboratory is presented. As an example of application of this method a study of contamination of Si wafer is reported.

Klíčová slova

Termální desorpční spektroskopie, TDS; desorpce; adsorpce

Klíčová slova v angličtině

Thermal desorption spectroscopy, TDS; desorption; adsorption

Autoři

POTOČEK, M.; BÁBOR, P.; ŠIKOLA, T.

Rok RIV

2009

Vydáno

1. 9. 2009

ISSN

0447-6441

Periodikum

Jemná mechanika a optika

Ročník

54

Číslo

7-8

Stát

Česká republika

Strany od

217

Strany do

218

Strany počet

2

BibTex

@article{BUT46796,
  author="Michal {Potoček} and Petr {Bábor} and Tomáš {Šikola}",
  title="Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace",
  journal="Jemná mechanika a optika",
  year="2009",
  volume="54",
  number="7-8",
  pages="217--218",
  issn="0447-6441"
}