Detail patentu

Způsob návrhu odrazných ploch reflexních zařízení pomocí analogie teplotního pole - radiace a vlnové rovnice a zařízení v podiobě světelné soustavy určené pro numerickou optimalizaci požadovaných světelných parametrů odrazných ploch

KROUTILOVÁ, E.

Typ patentu

patent

Abstrakt

Patent "Způsob návrhu odrazných ploch reflexních zařízení pomocí analogie teplotního pole - radiace a vlnové rovnice a zařízení v podiobě světelné soustavy určené pro numerickou optimalizaci požadovaných světelných parametrů odrazných ploch" se týká nového způsobu návrhu odrazných ploch reflexních zařízení pomocí analogie teplotního pole - radiace a vlnové rovnice a zařízení v podiobě světelné soustavy určené pro numerickou optimalizaci požadovaných světelných parametrů odrazných ploch

Klíčová slova

návrh odrazných ploch, světelné soustavy

Číslo patentu

200865

Datum přihlášky

4. 2. 2008

Datum zápisu

4. 2. 2009

Datum skončení platnosti

4. 2. 2010

Vydavatel

Úřad průmyslového vlastnictví, ANtonína Čermáka 2a, Praha

Vlastník

Ing. Eva Kroutilová, Ph.D.

Možnosti využití

K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Licenční poplatek

Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje licenční poplatek