Detail publikace

Tenké vrstvy, multivrstvy a gradientní vrstvy plazmových polymerů

ČECH, V.

Originální název

Tenké vrstvy, multivrstvy a gradientní vrstvy plazmových polymerů

Anglický název

Thin films, multilayers, and gradient films of plasma polymers

Typ

článek souhrnný, posudek

Jazyk

čeština

Originální abstrakt

Plazmochemická depozice z plynné fáze (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD) umožňuje připravit specifické materiály ve formě tenké vrstvy. Tyto materiály nacházejí stále větší uplatnění jako otěruvzdorné, bariérové, biokompatibilní, dielektrické, optické nebo adhezní vrstvy a také jako funkční vrstvy v chemických senzorech, separačních membránách a hybridních materiálech, např. polymerních kompozitech. Vedle organických prekurzorů používaných pro přípravu DLC (diamantu-podobný uhlík) vrstev, patří mezi často používané prekurzory také organokřemičitany. Nedávné studie ukázaly, že fyzikální a chemické vlastnosti vrstev připravených z organokřemičitých prekurzorů mohou být v poměrně širokých mezích řízeny depozičními podmínkami. Polymeru-podobné vrstvy tzv. plazmových polymerů lze připravit při relativně nízkých výkonech (< 10 W) dodávaných do plazmového výboje. Na příkladu vybraných plazmových polymerů připravených z monomeru tetravinylsilanu (TVS) ukážeme souvislosti mezi mechanickými a chemickými vlastnostmi těchto materiálů a jejich využití pro přípravu multivrstev a gradientních vrstev.

Anglický abstrakt

Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) allows the preparation of specific thin film materials. These materials are increasingly used as abrasion-resistant, barrier, biocompatible, dielectric, optical or adhesive layers, as well as functional layers in chemical sensors, separation membranes, and hybrid materials, such as polymer composites. In addition to organic precursors used for the preparation of DLC (diamond-like carbon) layers, organosilicates are often used as precursors. Recent studies have shown that the physical and chemical properties of layers prepared from organosilicon precursors can be governed by deposition conditions within relatively wide limits. Polymer-like layers of so-called plasma polymers can be prepared at relatively low power (<10 W) supplied to the plasma discharge. On the example of selected plasma polymers prepared from the tetravinylsilane monomer (TVS), we show the connections between the mechanical and chemical properties of these materials and their use for the preparation of multivariable and gradient layers.

Klíčová slova

PECVD; tenké vrstvy

Klíčová slova v angličtině

PECVD; thin films

Autoři

ČECH, V.

Vydáno

29. 5. 2017

Nakladatel

Česká vakuová společnost

Místo

Zpravodaj ČVS, 25 (1) 2017, Praha

Strany od

45

Strany do

49

Strany počet

4

BibTex

@misc{BUT144152,
  author="Vladimír {Čech}",
  title="Tenké vrstvy, multivrstvy a gradientní vrstvy plazmových polymerů",
  year="2017",
  pages="45--49",
  publisher="Česká vakuová společnost",
  address="Zpravodaj ČVS, 25 (1) 2017, Praha",
  note="review"
}