Projekt se bude zabývat tvorbou plazmonických struktur pomocí elektronové litografie, fokusovaného iontového svazku a z koloidního roztoku. Ke studiu plazmonických vlastností vyrobených struktur bude použita metoda zobrazení fázového kontrastu v holografickém mikroskopu, optická a infračervené spektroskopie a optický mikroskop v blízkém poli. Pro srovnání výsledků experimentů s teorií budou prováděny simulace v programech Lumerical FDTD Solutions a Comsol Multiphysics.

FSI-J-12-30

Czech

Kvapil Michal, Ing., Ph.D. - principal person responsible
Šikola Tomáš, prof. RNDr., CSc. - fellow researcher
Viewegh Petr, Ing., Ph.D. - fellow researcher

Institute of Physical Engineering
- responsible department (1.1.1989 - not assigned)
Institute of Physical Engineering
- internal (1.1.2012 - 31.12.2012)
Faculty of Mechanical Engineering
- beneficiary (1.1.2012 - 31.12.2012)

BŘÍNEK, L.; ÉDES, Z.; DVOŘÁK, P.; NEUMAN, T.; ŠAMOŘIL, T.; KALOUSEK, R.; DUB, P.; ŠIKOLA, T. Interference povrchových plazmonů v blízkém poli. Československý časopis pro fyziku, 2013, roč. 63, č. 4, s. 234-236. ISSN: 0009-0700.
Detail

BŘÍNEK, L.; DVOŘÁK, P.; NEUMAN, T.; DUB, P.; KALOUSEK, R.; ŠIKOLA, T. Aplikace rastrovací optické mikroskopie v blízkém poli pro plasmoniku. Jemná mechanika a optika, 2013, roč. 58, č. 6, s. 169-171. ISSN: 0447-6441.
Detail

DVOŘÁK, P.; NEUMAN, T.; BŘÍNEK, L.; ŠAMOŘIL, T.; KALOUSEK, R.; DUB, P.; VARGA, P.; ŠIKOLA, T. Control and Near-Field Detection of Surface Plasmon Interference Patterns. NANO LETTERS, 2013, vol. 13, no. 6, p. 2558-2563. ISSN: 1530-6984.
Detail

Responsibility: Kvapil Michal, Ing., Ph.D.