Project detail
Electrical measurements and analysis of parameters FET transistors at Cryogenic temperatures
Duration: 1.6.2015 — 30.9.2015
Funding resources
Neveřejný sektor - Přímé kontrakty - smluvní výzkum, neveřejné zdroje
On the project
Analysis impedance and noise characteristics of the MOS structures during cryogenic conditions
Description in Czech
analýza impedančních a šumových charakteristik ve strukturách MOS při kryogenních podmínkách
Keywords
cryogenycs, noise
Key words in Czech
kryogenická a šumová měření
Mark
2015_HS18557082
Default language
English
People responsible
Holcman Vladimír, doc. Ing., Ph.D. - principal person responsible
Units
Department of Physics
- responsible department (6.12.2016 - not assigned)
Department of Physics
- co-beneficiary (1.6.2015 - 30.9.2015)
division-FYZ-SIX
- beneficiary (5.11.2015 - not assigned)
Results
Responsibility: Holcman Vladimír, doc. Ing., Ph.D.