Příprava mikro a nanostruktur pomocí selektivního mokrého leptání křemíku

Preparation of micro and nanostructures by selective Si wet etching

journal article - other

Czech

Chemické leptání patří mezi velmi používané metody modifikace povrchu mnoha materiálů, které je využíváno jak v průmyslu, tak i v základním výzkumu. Tento článek pojednává o přípravě povrchových struktur selektivním mokrým leptáním Si(100) přes masku, jež je vytvořena pomocí metod elektronové a iontové litografie. Tyto metody s vysokým rozlišením v kombinaci s leptáním za použití vodného roztoku hydroxidu draselného (KOH) umožňují získat struktury rozdílných tvarů a rozměrů jak v mikrometrovém, tak i nanometrovém měřítku.

Chemical etching is widely utilized method for surface modification of many materials and is used both in industry and in basic research. This article deals with the preparation of surface structures by selective wet etching of Si(100) through a mask created by electron and ion beam lithography. Combining these high-resolution patterning techniques with etching using an aqueous solution of potassium hydroxide (KOH) allows to obtain structures with different shapes and sizes, both at micrometer and nanometer scale.

křemík; elektronová litografie; fokusovaný iontový svazek; selektivní mokré leptání

Silicon; Electron lithography; Focussed ion beam; selective wet etching

ŠAMOŘIL, T.; METELKA, O.; ŠIKOLA, T.

2014

1. 7. 2014

0447-6441

Jemná mechanika a optika

59

6-7

Czech Republic

192

195

4