Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikace
ŠAMOŘIL, T. METELKA, O. ŠIKOLA, T.
Originální název
Příprava mikro a nanostruktur pomocí selektivního mokrého leptání křemíku
Anglický název
Preparation of micro and nanostructures by selective Si wet etching
Typ
článek v časopise - ostatní, Jost
Jazyk
čeština
Originální abstrakt
Chemické leptání patří mezi velmi používané metody modifikace povrchu mnoha materiálů, které je využíváno jak v průmyslu, tak i v základním výzkumu. Tento článek pojednává o přípravě povrchových struktur selektivním mokrým leptáním Si(100) přes masku, jež je vytvořena pomocí metod elektronové a iontové litografie. Tyto metody s vysokým rozlišením v kombinaci s leptáním za použití vodného roztoku hydroxidu draselného (KOH) umožňují získat struktury rozdílných tvarů a rozměrů jak v mikrometrovém, tak i nanometrovém měřítku.
Anglický abstrakt
Chemical etching is widely utilized method for surface modification of many materials and is used both in industry and in basic research. This article deals with the preparation of surface structures by selective wet etching of Si(100) through a mask created by electron and ion beam lithography. Combining these high-resolution patterning techniques with etching using an aqueous solution of potassium hydroxide (KOH) allows to obtain structures with different shapes and sizes, both at micrometer and nanometer scale.
Klíčová slova
křemík; elektronová litografie; fokusovaný iontový svazek; selektivní mokré leptání
Klíčová slova v angličtině
Silicon; Electron lithography; Focussed ion beam; selective wet etching
Autoři
ŠAMOŘIL, T.; METELKA, O.; ŠIKOLA, T.
Rok RIV
2014
Vydáno
1. 7. 2014
ISSN
0447-6441
Periodikum
Jemná mechanika a optika
Ročník
59
Číslo
6-7
Stát
Česká republika
Strany od
192
Strany do
195
Strany počet
4
BibTex
@article{BUT108856, author="Tomáš {Šamořil} and Ondřej {Metelka} and Tomáš {Šikola}", title="Příprava mikro a nanostruktur pomocí selektivního mokrého leptání křemíku", journal="Jemná mechanika a optika", year="2014", volume="59", number="6-7", pages="192--195", issn="0447-6441" }