Přístupnostní navigace
E-application
Search Search Close
Publication detail
Jakub Piňos, Eliška Mikmeková, Šárka Mikmeková, Ilona Müllerová, Luděk Frank
Original Title
Mikroskopie velmi pomalými elektrony v ultravysokém vakuu
English Title
Low energy electron microscopy in ultra high vacuum
Type
journal article - other
Language
Czech
Original Abstract
Článek představuje již třetí verzi ultravysokovakuového mikroskopu s velmi pomalými elektrony vyvinutého a vyrobeného v ÚPT AVČR v Brně. Tento mikroskop je světově unikátním zařízením umožňujícím experimenty na speciálně připravených površích pevných látek. Mimořádné požadavky kladené na technické zpracování dílů pro UHV demonstrují možnosti precizní výroby v dílnách ústavu i spolupráci vědeckých oddělení například při svařování dílů elektronovým svazkem.
English abstract
This article presents the third version of ultrahigh vacuum microscope with very slow electrons, developed and produced at ISI CAS in Brno. This microscope is a world-class facility for experiments on specially prepared solids surfaces. Exceptional requirements for UHV component engineering demonstrate the possibilities of precision manufacturing in the workshops of the Institute as well as the collaboration of scientific departments, for example, when welding parts by an electron beam.
Keywords
Rastrovací mikroskopie, pomalé elektrony, ultrahigh vacuum, grafén, oceli, Augerova spektroskopie, atomově čisté povrchy, in-situ
Key words in English
Scanning electron microscopy, slow electrons, ultra high vacuum graphene, steel, auger spectroscopy, atomicaly clean surfaces, in-situ
Authors
Released
1. 10. 2017
ISBN
0447-6441
Periodical
Jemná mechanika a optika
Number
10 2017
State
Czech Republic
Pages from
264
Pages to
265
Pages count
2
BibTex
@article{BUT149396, author="Jakub {Piňos}", title="Mikroskopie velmi pomalými elektrony v ultravysokém vakuu", journal="Jemná mechanika a optika", year="2017", number="10 2017", pages="264--265", issn="0447-6441" }