RUV detail

Post-Ecuador Poster Bienal

RAJLICH, J.

Segment

grafický design

Activity type

Vystavený design

Keywords

plakát, autorský plakát, grafika, bienále

Create date

16. 2. 2017

Location

Museo Antropológico De Arte Contemporáneo MAAC, Ekvádor, Guayaquil, 16.02.2017 - 12.03.2017