Detail RUV

Post-Ecuador Poster Bienal

RAJLICH, J.

Segment

grafický design

Druh činnosti

Vystavený design

Klíčová slova

plakát, autorský plakát, grafika, bienále

Datum vzniku

16. 2. 2017

Umístění

Museo Antropológico De Arte Contemporáneo MAAC, Ekvádor, Guayaquil, 16.02.2017 - 12.03.2017