Publication detail

In situ plošné monitorování optických vlastnotí tenkých vrstev připravovaných metodou IBAD

URBÁNEK, M., ZLÁMAL, J.

Original Title

In situ plošné monitorování optických vlastnotí tenkých vrstev připravovaných metodou IBAD

English Title

In situ measurements of surface homogenity of optical properties of thin films prepared by IBAD

Type

conference paper

Language

Czech

Original Abstract

Článek se zabývá in situ měřením plošné homogenity optických vlastností tenkých vrstev SiO2 připravených metodou IBAD. Zařízení pracuje na principu spekrální odrazivosti. Rovněž je uvedeno několik příkladů aplikace.

English abstract

In the paper the in situ observation of areal homogenity of optical properties of SiO2 thin films prepared by IBAD is reported. The work has been done on the instrument working an the principles of spectral reflectivity designed in our group. Homogenous grown of an SiO2 thin film with an average growth rate of 103 nm/hour during the deposition was observed. In the second experiment, the ion beam etching rate of the thermal SiO2 thin film was 200 nm/hour with enhanced roughness of the etched film.

Key words in English

Surface homogenity, reflectivity

Authors

URBÁNEK, M., ZLÁMAL, J.

RIV year

2001

Released

19. 9. 2001

Publisher

Fakulta strojního inženýrství VUT v Brně

Location

Brno

Pages from

274

Pages to

276

Pages count

3

BibTex

@inproceedings{BUT3361,
  author="Michal {Urbánek} and Jakub {Zlámal}",
  title="In situ plošné monitorování optických vlastnotí tenkých vrstev připravovaných metodou IBAD",
  booktitle="Juniormat '01 sborník",
  year="2001",
  pages="3",
  publisher="Fakulta strojního inženýrství VUT v Brně",
  address="Brno"
}