Detail publikace

In situ plošné monitorování optických vlastnotí tenkých vrstev připravovaných metodou IBAD

URBÁNEK, M., ZLÁMAL, J.

Originální název

In situ plošné monitorování optických vlastnotí tenkých vrstev připravovaných metodou IBAD

Anglický název

In situ measurements of surface homogenity of optical properties of thin films prepared by IBAD

Typ

článek ve sborníku ve WoS nebo Scopus

Jazyk

čeština

Originální abstrakt

Článek se zabývá in situ měřením plošné homogenity optických vlastností tenkých vrstev SiO2 připravených metodou IBAD. Zařízení pracuje na principu spekrální odrazivosti. Rovněž je uvedeno několik příkladů aplikace.

Anglický abstrakt

In the paper the in situ observation of areal homogenity of optical properties of SiO2 thin films prepared by IBAD is reported. The work has been done on the instrument working an the principles of spectral reflectivity designed in our group. Homogenous grown of an SiO2 thin film with an average growth rate of 103 nm/hour during the deposition was observed. In the second experiment, the ion beam etching rate of the thermal SiO2 thin film was 200 nm/hour with enhanced roughness of the etched film.

Klíčová slova v angličtině

Surface homogenity, reflectivity

Autoři

URBÁNEK, M., ZLÁMAL, J.

Rok RIV

2001

Vydáno

19. 9. 2001

Nakladatel

Fakulta strojního inženýrství VUT v Brně

Místo

Brno

Strany od

274

Strany do

276

Strany počet

3

BibTex

@inproceedings{BUT3361,
  author="Michal {Urbánek} and Jakub {Zlámal}",
  title="In situ plošné monitorování optických vlastnotí tenkých vrstev připravovaných metodou IBAD",
  booktitle="Juniormat '01 sborník",
  year="2001",
  pages="3",
  publisher="Fakulta strojního inženýrství VUT v Brně",
  address="Brno"
}