Product detail
Vývoj metodiky a etalonů na zkoušení přesnosti souřadnicových měřicích strojů s optickým snímacím systémem a optických souřadnicových měřicích strojů. Projekt číslo 4.2 PT 01/013
VAVŘÍK, I. HOLUB, M. BLECHA, P. BRADÁČ, F. KARPÍŠEK, Z.
Product type
ověřená technologie
Abstract
Zajištění a prokázání metrologické návaznosti CMM s optickými snímacími systémy a optických CMM prostřednictvím vývoje vhodného systému zkoušení přesnosti složeného z hmotných etalonů rozměru (zkušební tělesa), metodiky pro vyhodnocování zkoušek přesnosti a stochastického modelování.
Keywords
CMM, optické snímání, etalon, metodika, stochastické modelování
Create date
27. 11. 2008
Location
ÚVSSR ZL - SERVIS, s.r.o.
Possibilities of use
K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licence fee
Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek