Detail produktu
Vývoj metodiky a etalonů na zkoušení přesnosti souřadnicových měřicích strojů s optickým snímacím systémem a optických souřadnicových měřicích strojů. Projekt číslo 4.2 PT 01/013
VAVŘÍK, I. HOLUB, M. BLECHA, P. BRADÁČ, F. KARPÍŠEK, Z.
Typ produktu
ověřená technologie
Abstrakt
Zajištění a prokázání metrologické návaznosti CMM s optickými snímacími systémy a optických CMM prostřednictvím vývoje vhodného systému zkoušení přesnosti složeného z hmotných etalonů rozměru (zkušební tělesa), metodiky pro vyhodnocování zkoušek přesnosti a stochastického modelování.
Klíčová slova
CMM, optické snímání, etalon, metodika, stochastické modelování
Datum vzniku
27. 11. 2008
Umístění
ÚVSSR ZL - SERVIS, s.r.o.
Možnosti využití
K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licenční poplatek
Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek