Přístupnostní navigace
E-application
Search Search Close
Product detail
MOZALEV, A. HUBALEK, J. SOLOVEI, D.
Product type
funkční vzorek
Abstract
An advanced approach is implemented to fabricate Ta2O5/Ta films with highly porous nanostructured morphology and substantially enlarged surface-to-volume ratio via electrochemical anodizing of tantalum layers sputter-deposited over the nanoporous alumina substrates. Potential application of the films as metal/oxide electrodes for electrolytic and thin-film capacitors
Keywords
Anodic oxidation of tantalum, Ta2O5 nanostructures, capacitors, porous anodic alumina
Create date
1. 8. 2012
Location
UMEL, SIX, mist. 0.68
Possibilities of use
Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)
Licence fee
Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje licenční poplatek
www
http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/Products.aspx