Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail produktu
MOZALEV, A. HUBALEK, J. SOLOVEI, D.
Typ produktu
funkční vzorek
Abstrakt
An advanced approach is implemented to fabricate Ta2O5/Ta films with highly porous nanostructured morphology and substantially enlarged surface-to-volume ratio via electrochemical anodizing of tantalum layers sputter-deposited over the nanoporous alumina substrates. Potential application of the films as metal/oxide electrodes for electrolytic and thin-film capacitors
Klíčová slova
Anodic oxidation of tantalum, Ta2O5 nanostructures, capacitors, porous anodic alumina
Datum vzniku
1. 8. 2012
Umístění
UMEL, SIX, mist. 0.68
Možnosti využití
Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)
Licenční poplatek
Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje licenční poplatek
www
http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/Products.aspx