Přístupnostní navigace
E-application
Search Search Close
Publication detail
Ondřej Hégr, Jaroslav Boušek
Original Title
Reaktivní magnetronové naprašování vrstev SiNx pro povrchovou pasivaci krystalických solárních článků
English Title
Reactive magnetron sputtering of SiNx layers for surface passivation of crystalline solar cells
Type
conference paper
Language
Czech
Original Abstract
Hlavní výhodou pasivačních vrstev vytvářených reaktivním magnetronovým naprašováním je zejména nízká procesní teplota. Použití nízkoteplotní depozice umožňuje redukci poruch krystalické mřížky křemíkového povrchu. Díky tomu je snižována rekombinační rychlost a prodlužuje se doba života minoritních nosičů. Cílem práce je vytvořit pasivační vrstvu na povrchu fotovoltaického solárního článku, jejíž struktura umožní zlepšení optických a elektrických vlastností celého článku.
English abstract
For deposition of SiNx films the main advantage of magnetron sputtering technology is low process temperature. The amount of the crystal lattice deffect decrease when using this low-temperature process. The aim of work was evaluation of both front and back side surface recombinations and optical properties of sputtered layers.
Keywords
pasivační vrstva, rekombinace, magnetronové naprašování, solární články
Key words in English
passivation layer, magnetron sputtering, solar cells, recombination
Authors
RIV year
2006
Released
12. 12. 2006
Publisher
nakl. Z. Novotný
ISBN
80-214-3342-6
Book
Konference MIKROSYN. Nové trendy v mikroelektronických systémech a nanotechnologiích
Pages from
124
Pages to
129
Pages count
6
BibTex
@inproceedings{BUT24901, author="Ondřej {Hégr} and Jaroslav {Boušek}", title="Reaktivní magnetronové naprašování vrstev SiNx pro povrchovou pasivaci krystalických solárních článků", booktitle="Konference MIKROSYN. Nové trendy v mikroelektronických systémech a nanotechnologiích", year="2006", volume="2006", number="1", pages="6", publisher="nakl. Z. Novotný", isbn="80-214-3342-6" }