Detail předmětu

Plasma Chemistry II

FCH-MAO_PLA2Ak. rok: 2011/2012

Cílem kursu je podání základních znalostí a přehledu nejrůznějších plazmochemických procesů a technologií, které tvoří jednu ze základen moderní High-Tech civilizace. Přednášky budou vedeny převážně českými specialisty v různých oblastech plazmové chemie. Budou probrány technologie výroby mikroelektronických prvků, plasmové leptání a depoziční procesy, povrchové plazmatické úpravy a syntézy nových materiálů. Kromě toho budou rovněž diskutovány technologie rozkladu chemických látek v plazmatu. Rovněž bude probráno plazma v přírodě a jeho využití v termojaderné syntéze. Aktuální program pro následující týdny bude zveřejňován e-mailem, v e-learningu a na nástěnce.

Jazyk výuky

angličtina

Počet kreditů

3

Garant předmětu

prof. RNDr. František Krčma, Ph.D.

Zajišťuje ústav

Ústav fyzikální a spotřební chemie (ÚFSCH)

Nabízen zahraničním studentům

Všech fakult

Výsledky učení předmětu

Přehled o plazmochemických procesech a technologiích i směrech dalšího vývoje.

Prerekvizity

Plazmochemie/Plasma chemistry

Plánované vzdělávací činnosti a výukové metody

Metody vyučování závisejí na způsobu výuky a jsou popsány článkem 7 Studijního a zkušebního řádu VUT.

Způsob a kritéria hodnocení

Každý student připraví prezentaci (cca 15 snímků) o zvoleném plazmochemickém procesu či technologii. Jejich přehled bude studentům nabídnut v informačním systému. Součástí prezentace bude i cca dvoustránkový slovní komentář. Vlastní zkouška pak proběhne formou testu zaměřeného na plazmochemické procesy a technologie.

Osnovy výuky

Přehled témat (aktuální nabídka bude průběžně upřesňována):
1. Plazma v přírodě
2. Termojaderná fúze a její perspektivy
3. Osvětlovací technika, plazmové displaye
4. Plynové lasery, excimerní směsi
5. Elektonové, atomární a molekulové svazky
6. Elektrický oblouk
7. Spínací zařízení
8. Plazmové leptání, výroba mikroelektronických prvků
9. Generace reaktivních částic a organické syntézy v plazmatu
10. Depozice tvrdých vrstev (PACVD, PECVD)
11. Plazmové naprašování - magnetronové, diodové, VF
12. Depozice ochranných DLC vrstev
13. Povrchové úpravy polymerů (non-polymer forming plasma)
14. Plazmová polymerace (polymer forming plasma), grafting (roubování)
15. Semipermeabilní membrány, senzory na bázi plazmových polymerů
16. Polymerní vrstvy pro využití v kompozitech
17. Redukce korozních vrstev
18. Příprava nanočástic v plazmatu, nanotechnologie
19. Plazmové stříkaní, plazmatrony
20. Plazmová sterilizace
21. Laserová ablační spektroskopie (LIBS)
22. Rozklad VOC v termálním a nerovnovážném plazmatu
23. Výboje v kapalinách I - principy generace výbojů, generace rázové vlny
24. Výboje v kapalinách II - generace aktivních částic, rozklady látek, desinfekce
25. Dohasínající plazma a jeho využití
26. Aplikace pulzního režimu výbojů

Učební cíle

Cílem je podat studentům přehled o plazmochemických procesech a technologiích, které jsou jedním ze základů současných a budoucích technologií.

Vymezení kontrolované výuky a způsob jejího provádění a formy nahrazování zameškané výuky

není

Prerekvizity a korekvizity

Základní literatura

F. Chen, J. P. Chang: Principles of Plasma Processing, Kluwer Academic/ Plenum Publishers 2003, 0 (EN)

Doporučená literatura

J.R. Roth: Industrial Plasma Engineering Volume 1: Principles (EN)
J.R. Roth: Industrial Plasma Engineering Volume 2: Applications to Nonthermal Plasma Processing (EN)

Zařazení předmětu ve studijních plánech

  • Program NPCP_CHM_INT magisterský navazující

    obor NPCO_CHM , 1 ročník, zimní semestr, volitelný

  • Program CKCP_CZV celoživotní vzdělávání (není studentem)

    obor CKCO_CZV , 1 ročník, zimní semestr, povinně volitelný

Typ (způsob) výuky

 

Přednáška

26 hod., nepovinná

Vyučující / Lektor

prof. RNDr. František Krčma, Ph.D.