Detail předmětu

Plazmochemické technologie

FCH-MC_PCTAk. rok: 2021/2022

Předmět seznamuje studenty s plazmochemickými procesy a technologiemi využívanými v soudobé laboratorní i průmyslové praxi. Kromě představení teoretických aspektů jednotlivých plazmochemických procesů vedou část přednášek pozvaní odborníci na příslušné technologie, jak ze sféry výzkumu, tak i průmyslu. Podle možností jsou realizovány i exkurze na pracoviště využívající tyto procesy a technologie.

Jazyk výuky

čeština

Počet kreditů

4

Výsledky učení předmětu

Studenti získají přehled o současných technologiích i směrech dalšího výzkumu a vývoje.

Prerekvizity

nejsou

Plánované vzdělávací činnosti a výukové metody

Výuka předmětu je realizována formou: Přednáška - 2 vyučovací hodiny týdně. Vyučujícím a studentům je k dispozici e-learningový systém LMS Moodle.

Způsob a kritéria hodnocení

Na závěr předmětu studenti absolvují psaný test složený ze čtveřic otázek ke každému odpřednášenému tématu. Přednášky jsou studentům k dispozici v pdf na e-learningu.

Osnovy výuky

Přehled témat (aktuální nabídka je průběžně upřesňována podle dispozice přednášejících):
1. Plazma v přírodě, 2. Termojaderná fúze a její perspektivy, 3. Osvětlovací technika, plazmové displeje, 4. Plynové lasery, excimerní směsi, 5. Elektronové, atomární a molekulové svazky, 6. Elektrický oblouk, 7. Spínací zařízení, 8. Plazmové leptání, výroba mikroelektronických prvků, 9. Generace reaktivních částic a organické syntézy v plazmatu, 10. Depozice tvrdých vrstev (PACVD, PECVD), 11. Plazmové naprašování - magnetronové, diodové, VF, 12. Depozice ochranných DLC vrstev, 13. Povrchové úpravy polymerů (non-polymer forming plasma), 14. Plazmová polymerace (polymer forming plasma), graffting (roubování), 15. Semipermeabilní membrány, senzory na bázi plazmových polymerů, 16. Polymerní vrstvy pro využití v kompozitech, 17. Redukce korozních vrstev, 18. Příprava nanočástic v plazmatu, nanotechnologie, 19. Plazmové stříkaní, plazmatrony, 20. Plazmová sterilizace, 21. Laserová ablační spektroskopie (LIBS), 22. Rozklad VOC v termálním a nerovnovážném plazmatu, 23. Výboje v kapalinách I - principy generace výbojů, generace rázové vlny, 24. Výboje v kapalinách II - generace aktivních částic, rozklady látek, desinfekce, 25. Dohasínající plazma a jeho využití, 26. Aplikace pulzního režimu výbojů, 27. Plazmochemické procesy v planetárních atmosférách, 28. Plazmochemická generace ozónu.

Učební cíle

Cílem je studentům ukázat současný stav oboru z pohledu vědy, výzkumu i výrobní praxe.

Vymezení kontrolované výuky a způsob jejího provádění a formy nahrazování zameškané výuky

není

Doporučená literatura

Chen F., Chang J. P.: Principles of Plasma Processing. Kluwer Academic, Plenum Publishers, NewYork 2003. (EN)
Roth J. R.: Industrial Plasma Engineering Volume 1: Principles. Institute of Physics Publishing, Bristol and Philadelphia 1995. (EN)
Roth J. R.: Industrial Plasma Engineering Volume 2: Applications to Nonthermal Plasma Processing. Institute of Physics Publishing, Bristol and Philadelphia 2001. (EN)

Zařazení předmětu ve studijních plánech

  • Program NPCP_CHCHTE magisterský navazující 2 ročník, zimní semestr, povinně volitelný
  • Program NKCP_CHCHTE magisterský navazující 2 ročník, zimní semestr, povinně volitelný

Typ (způsob) výuky

 

Přednáška

26 hod., nepovinná

Vyučující / Lektor

Konzultace v kombinovaném studiu

26 hod., nepovinná

Vyučující / Lektor