Přednáška poskytne stručný přehled jevů, ke kterým dochází v plazmatu elektrických výbojů a prodiskutuje základní principy výbojů, které se využívají v mikroelektronice a průmyslové modifikaci povrchů. Probereme principy leptání a depozice vrstev suchými metodami. Studenti získají informace o chemické depozici z par (CVD), depozici po atomových vrstvách (ALD) i fyzikálních metodách depozice (PVD), včetně metod využívajících plazmových procesů jako je plazmové leptání, modifikace povrchů plazmatem, plazmochemická depozice z plynné fáze (PECVD) a magnetronové naprašování. Možnosti těchto technologií budou představeny na konkrétních příkladech: leptání velmi úzkých (high-aspect-ratio) struktur, funkcionalizace povrchů, depozice diamond-like carbon vrstev, depozice bioaktivních plazmových polymerů, syntéza uhlíkových nanomateriálů a nanočástic na bázi kovů. Pro lepší pochopení budou procesy demonstrovány pomocí experimentů.