Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikace
ŠULC, D. WERTHEIMER, P. PÁLENÍČEK, M. VÁLEK, L. ŠIKOLA, T.
Originální název
Zařízení pro analýzu křemíkových desek
Anglický název
Device for analysis of silicon wafers
Typ
článek v časopise - ostatní, Jost
Jazyk
čeština
Originální abstrakt
Cílem této práce bylo vytvořit zařízení pro analýzu defektů (vrstevných chyb) na povrchu křemíkových desek vyrobených Czochralského metodou. Zařízení je schopno automaticky analyzovat desky až do průměru 200 mm. Sestává z optického mikroskopu, polohovacího motorizovaného xy stolku, obslužné elektroniky a ovládacího a vyhodnocovacího softwaru, který dokáže defekty na desce rozpoznat, lokalizovat a charakterizovat. Zařízení bylo vyvíjeno ve spolupráci s firmou ON Semiconductor ČR.
Anglický abstrakt
The aim of this work was a design of the device for defects analysis (stacking faults) of silicon wafer manufactured by Czochralski method. This device can analyze wafers of diameter up to 200 mm automatically. Hardware consists of optical microscope, positioning motorized xy stage, control electronics. Controlling and evaluating software, which has been developed as well, identifies, localizes and characterizes wafer defects. The device was developed in co-operation with company ON Semiconductor, Czech Republic.
Klíčová slova
Si desky, měřící systém, polohování
Klíčová slova v angličtině
Si wafer, measurement device, positioning
Autoři
ŠULC, D.; WERTHEIMER, P.; PÁLENÍČEK, M.; VÁLEK, L.; ŠIKOLA, T.
Rok RIV
2013
Vydáno
1. 6. 2013
ISSN
0447-6441
Periodikum
Jemná mechanika a optika
Ročník
58
Číslo
6
Stát
Česká republika
Strany od
187
Strany do
189
Strany počet
3
BibTex
@article{BUT100687, author="Dalibor {Šulc} and Pavel {Wertheimer} and Michal {Páleníček} and Lukáš {Válek} and Tomáš {Šikola}", title="Zařízení pro analýzu křemíkových desek", journal="Jemná mechanika a optika", year="2013", volume="58", number="6", pages="187--189", issn="0447-6441" }