Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail patentu
MACH, J. ŠIKOLA, T.
Typ patentu
patent
Abstrakt
Ion-atomový zdroj s optimalizovanou tvorbou iontů pro depozici s asistencí iontů (IBAD) v podmínkách ultravysokého vakua (UHV). Vynález je kombinací efusní cely a elektron srážkového iontového zdroje poskytující iontové svazky o ultranízkých energiích v rozmezí od 30 eV až 200 eV. Snížení energie iontového svazku na hypertermní hodnoty (cca 10 eV) je realizováno bez ztráty optimálních ionizační podmínek. Toto je dosaženo především začleněním ionizační komory s mřížkou, která je dostatečně transparentní pro elektrony a ionty. Zdrojem jsou připravovány ultratenké vrstevy a nanostruktury s asistencí iontů o ultranízkých energiích s rychlostí růstu několika monovrstev za hodinu.
Klíčová slova
Iontově atomární zdroj
Číslo patentu
303867
Datum přihlášky
5. 5. 2009
Datum zápisu
24. 4. 2013
Vydavatel
Úřad průmyslového vlastnictví (patentový úřad České republiky)
Vlastník
Vut Brno
Možnosti využití
K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licenční poplatek
Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje licenční poplatek