Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikace
TRIVEDI, R. KONTÁROVÁ, S. ČECH, V.
Originální název
Plasma-enhanced chemical vapor deposition of nanocomposite thin films
Typ
abstrakt
Jazyk
angličtina
Originální abstrakt
The deposited films at a power of 10 W (self-bias 120 V) were of grain structure with a diameter of grains 20-100 nm. The diameter of some grains increased up to 0.5 micron with en-hanced power at an expense of smaller ones, whose magnitude decreased.
Klíčová slova
PECVD, nanocomposite, AFM, nanoindentaion
Autoři
TRIVEDI, R.; KONTÁROVÁ, S.; ČECH, V.
Vydáno
27. 12. 2010
Strany od
1
Strany do
Strany počet
BibTex
@misc{BUT60976, author="Rutul Rajendra {Trivedi} and Soňa {Kontárová} and Vladimír {Čech}", title="Plasma-enhanced chemical vapor deposition of nanocomposite thin films", booktitle="PSE 2010", year="2010", edition="1", pages="1--1", note="abstract" }