Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail patentu
HUBÁLEK, J.
Typ patentu
užitný vzor
Abstrakt
Užitný vzor depozičního zařízení pro vytváření nanostruktur elektrochemickými nebo chemickými metodami. Zařízení provádí poziciování pomocí 3D systému a provádí lokální modifikace čipů nanostrukturami na nerozřezaném waferu.
Klíčová slova
elektrochemické a chemické depozice, nanostruktury
Číslo patentu
20398
Datum přihlášky
9. 11. 2009
Datum zápisu
4. 1. 2010
Vydavatel
Patentový úřad Brno
Vlastník
VUT
Možnosti využití
K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licenční poplatek
Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje licenční poplatek