Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail publikace
ČECH, V.
Originální název
Pulsed Plasma Used to Control Properties of a-SiOC:H Alloys
Typ
přednáška
Jazyk
angličtina
Originální abstrakt
Plasma polymer films were deposited from organosilicon monomers (hexamethyldisiloxane, vinyltriethoxysilane, and tetra-vinylsilane (pure or in a mixture with oxygen gas) by pulsed plasma at different power (0.05–40 W). The deposited materials in the form of hydrogenated amorphous carbon-silicon oxide (a-SiOC:H) alloy are discussed with respect to their chemical, optical, mechanical, and surface properties controlled by pulsed plasma.
Klíčová slova
thin films, PECVD
Autoři
Vydáno
26. 7. 2012
Místo
Tatung University, Taipei, Taiwan
BibTex
@misc{BUT97298, author="Vladimír {Čech}", title="Pulsed Plasma Used to Control Properties of a-SiOC:H Alloys", year="2012", address="Tatung University, Taipei, Taiwan", note="lecture" }