Přístupnostní navigace
E-přihláška
Vyhledávání Vyhledat Zavřít
Detail produktu
MOZALEV, A. HUBALEK, J.
Typ produktu
funkční vzorek
Abstrakt
Three types of thin solid films with the nanoscale inner structures were synthesized by sputtering-deposition and anodizing of Al layer, Al 1.5 at.% Si alloy layer, and Al/Ta bilayer on Si wafers. All the anodic films comprised 1 um thick nanoporous alumina layer as the key component. The essential differences were due to the silicon impurities (AlSi alloy) and the array of nanosized tantalum oxide protrusions in the alumina barrier layer (Al/Ta bilayer).
Klíčová slova
porous alumina; tantalum oxide; nanostructure; dielectric properties; electric polarization; integral capacitors; high-frequency performance
Datum vzniku
31. 7. 2012
Umístění
LabSensNano, SIX, UMEL
Možnosti využití
Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)
Licenční poplatek
Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje licenční poplatek
www
http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/Products.aspx