Přístupnostní navigace
E-application
Search Search Close
Project detail
Duration: 01.04.2010 — 31.05.2014
Funding resources
Ministerstvo průmyslu a obchodu ČR - TIP
- whole funder (2010-04-01 - 2014-05-31)
On the project
Předmětem projektu je vývoj nového komerčně konkurenceschopného rastrovacího elektronového mikroskopu pro nanotechnologie a nanovědy se zřetelem na vysoký stupněm modulárnosti, zlepšeného rozlišení při nízkých energiích elektronů a jednoduchost při zachování ostatních špičkových parametrů. Toho bude dosaženo návrhem, výrobou a implementací nového tubusu REM, vývojem a testováním nových kompozitních prvků pro studenou emisi elektronů připravených průmyslově kompatibilní plazmovou technologií, vývojem a praktickým ověřováním provozu pokročilých analytických a technologických modulů a jejich kombinací v REM, a realizací demonstrátoru modulárního multifunkčního REM zařízení s aplikačními listy pro jeho využití.
Description in EnglishIn this project we develop new commercially competitive scanning electron microscope for nanotechnologies and nanosciences with a special view to it high degree of modularity, improved resolution at low electron energies and simplicity while preserving other front-end parameters. This will be accomplished by design, fabrication, and implementation on novel SEM tube, by development and testing of novel cold emission elements prepared by industry-compatible plasma technology, by development and practical application of advanced analytical and technological modules as well as their combination in SEM, and by assembling a demonstrator of modular multifunctional SEM apparatus with application sheets for its practical use.
Keywordselektronová optika, elektronový mikroskop, elektronové detektory, uhlíkové materiály, studená emise, nanomanipulátory, proud indukovaný elektronovými paprsky, depozice, leptání, nanotechnologie, nanověda,
Key words in Englishelectron optics; electron microscope; electron detectors; carbon materials; cold emission; nanomanipulators; electron beam induced currents; ion beam deposition; ion beam etching; nanotechnology; nanosciences; application sheets
Mark
FR-TI2/736
Default language
Czech
People responsible
Šikola Tomáš, prof. RNDr., CSc. - fellow researcherJiruše Jaroslav, Ing., Ph.D. - principal person responsible
Units
Institute of Physical Engineering- co-beneficiary (2010-04-01 - 2014-05-31)
Results
MACH, J.; ŠAMOŘIL, T.; VOBORNÝ, S.; KOLÍBAL, M.; ZLÁMAL, J.; SPOUSTA, J.; DITTRICHOVÁ, L.; ŠIKOLA, T. An ultra-low energy (30–200 eV) ion-atomic beam source for ion-beam-assisted deposition in ultrahigh vacuum. Review of Scientific Instruments, 2011, vol. 82, no. 8, p. 083302-1 (083302-7 p.)ISSN: 0034-6748.Detail
BŘÍNEK, L.; DVOŘÁK, P.; NEUMAN, T.; DUB, P.; KALOUSEK, R.; ŠIKOLA, T. Aplikace rastrovací optické mikroskopie v blízkém poli pro plasmoniku. Jemná mechanika a optika, 2013, roč. 58, č. 6, s. 169-171. ISSN: 0447-6441.Detail
KOLOŠOVÁ, J.; HRNČÍŘ, T.; JIRUŠE, J.; RUDOLF, M.; ZLÁMAL, J. On the Calculation of SEM and FIB Beam Profiles. MICROSCOPY AND MICROANALYSIS, 2015, vol. 21, no. S4, p. 206-211. ISSN: 1431-9276.Detail
MACH, J.; ŠAMOŘIL, T.; KOLÍBAL, M.; ZLÁMAL, J.; VOBORNÝ, S.; BARTOŠÍK, M.; ŠIKOLA, T. Optimization of ion-atomic beam source for deposition of GaN ultrathin films. Review of Scientific Instruments, 2014, vol. 85, no. 8, p. 083302-1 (083302-5 p.)ISSN: 0034-6748.Detail
MACH, J.; PIASTEK, J.; Vysoké učení technické v Brně, Brno, CZ: Měřicí hlava pro měření emisivity studených katod. 27572, užitný vzor. (2014)Detail
MACH, J.: Měření studených katod; Zařízení pro měření I-V křivek emise studených katod. A2/518. (funkční vzorek)Detail